中国启动国产浸没式DUV光刻机量产，今年目标约5台
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中国上海国企开始量产国产浸没式DUV光刻机，计划2026年生产约5台、2027年约20台，交付中芯国际等。设备性能落后于ASML，需长期测试，关键部件仍依赖日本。ASML股价一度跌超6%。
据The Information、路透社等多家媒体报道，中国已开始大规模生产自主研发的浸没式深紫外（DUV）光刻机。知情人士称，上海一家国有企业正推进量产，计划2026年生产约5台，2027年提升至约20台，并将交付中芯国际、华虹半导体等国内芯片制造商。
该设备在性能和可靠性上仍落后于ASML同类产品，芯片制造商需要耗费数月甚至更长时间进行精度与兼容性测试，才能将其引入量产产线。设备主要采用国产零部件，但部分关键部件仍来自日本，今年本地供应链的延误已对生产进度造成影响。
受此消息影响，ASML股价一度下跌超过6%。业内分析认为，国产DUV光刻机短期内难以对ASML构成直接威胁，但若产量持续增长，尤其是在西方可能收紧出口限制的背景下，可能逐步侵蚀ASML在中国市场的份额。
来源：科技圈🎗在花频道📮